WASEDA UNIVERSITY
              
 
 
 

クォーツチューブ型マイクロ波プラズマCVD装置

先端放電型マイクロ波プラズマCVD装置

高精度マイクロ波プラズマCVD装置

ホール効果測定装置

高真空反射高速電子線回折装置

極低温カソードルミネッセンス分光分析装置

抵抗加熱蒸着装置

収束電子線MBE装置

環境制御型原子間力顕微鏡

極低温測定用プローブシステム

高温測定用プローブステーション

ネットワークアナライザおよび高周波測定用プローブシステム

高性能加湿装置

高純度半導体ガス供給管理システム

高精度電子線描画装置

ラマン装置

単結晶高純度ダイヤモンド成膜装置

表面安定化成膜装置

   

表面安定化成膜装置:

超高真空中でのNラジカル、Al、Siの各ビームの照射が可能な装置。
成膜と同時にRHEEDパターンを測定することも可能。一般的なMBEと異なり各セルが成長室の上部についているため、成膜時に基板をホルダ等に固定する必要が無い。主にAlNの成膜に使用。